高纯石英砂处理设备,齐齐哈尔建筑垃圾处理设备

一种高纯石英砂酸洗装置的制作方法文档序号:12702333导航: X技术> 最新专利>无机化学及其化合物制造及其合成,应用技术本实用新型涉及一种石英砂提纯清洗设备,具体涉及一种高纯石英砂酸洗装置。

高纯石英砂是指SiO2含量高于99.99%的石英粉体,是作为石英坩埚和石英玻璃的主要原料。同时,其高档产品也广泛应用于大规模和超大规模集成电路、光纤、太阳能电池、激光、航天等行业中,随着这些高科技行业的迅速发展,对石英砂的生产,特别是纯度的提高提出了更高的要求。近几年,高纯石英砂的制备技术依然被美国、德国等垄断,并且限制了技术和出口,我国一些企业在石英砂的提纯和规模化开采依然处于艰难的探索阶段。

目前,国内生产高纯石英砂的主要工艺为:破碎-磨矿-磁选-浮选-酸浸-强磁选-去离子水洗涤-过滤-烘干等。其中石英砂酸洗主要通过常温静态浸泡和加热搅拌清洗。常温静态浸泡是一种静态清洗过程,去杂速度慢,残留杂质多,不能有效地达到清洗效果;加热搅拌清洗虽然能够提升酸洗效果,但是酸洗过程中易磨损容器壁,杂质脱落容易造成二次污染,也缩短了设备的实用寿命。同时,二者都需要酸浸,酸液消耗量大,导致成本较高,也不利于环保。

为了解决上述清洗提纯效果差,成本较高,不利于环保等问题,提供了一种可以明显改善产品质量、提高生产效率的高纯石英砂酸洗装置。

本实用新型所采用的技术方案是:

一种高纯石英砂酸洗装置,包括罐体,罐体左上方开有进料口,罐体内部设有滤板,与滤板平行右侧设有出料口,罐体中滤板以下部分为酸液室,酸液室左侧上方设有进酸口,右侧下方设有出酸口,罐体底部为PVC薄膜,PVC薄膜和压电晶片形成密闭空间,内部装有偶合水,压电晶片和超声波加湿器相连,超声波加湿器上设有功率控制钮。

进一步的,所述进料口和出料口孔径为30-50cm,进酸口和出酸口孔径为25-35cm。

进一步的,所述滤板位于罐体三分之一高度处,滤板上均匀分布有孔径为0.1-0.4mm的滤孔。

本实用新型的有益效果如下:

(1)本实用新型结构简单,操作方便,在密封条件下,超声雾化装置产生的雾化酸洗液对石英砂进行了动态浸洗,酸液能够快速清洗表面杂质。同时,雾化酸液在冲力作用下能够渗透到石英砂内部,达到加速分解石英砂内部的金属和其它杂质,下落的雾化酸液与上升的雾化酸液形成对流工作状态,可对石英砂进行二次冲洗,有效地提升了清洗效果,提高生产效率,节约成本。

(2)本实用新型采用超声雾化清洗,避免了搅拌过程中搅拌叶片和物料对罐壁的磨损,从而避免了因磨损杂质脱落而引起的二次污染。超声雾化装置的功率连续可调,可以兼容不同粒度的石英砂处理需求。

(3)本实用新型不需要对样品进行酸浸过程,雾化酸液对滤板上的石英砂动态浸洗,下落的酸液也对石英砂进行了二次冲洗,石英砂表面和内部的杂质随酸液下落,通过出酸口对酸液进行后处理。在避免酸液中杂质对石英砂二次污染的同时,极大减少了酸液消耗量,减轻了环保压力,降低生产成本。

图1为本实用新型的结构简图。其中:

(1)是超声雾化装置;(101)是超声波加湿器;(102)是功率控制钮;(103)是压电晶片;(104)是偶合水;(105)是 PVC薄膜;(2)是进酸口;(3)是出酸口;(4)是滤板;(5)是出料口;(6)是进料口;(7)是罐体;(8)是石英砂;(9)是雾化酸液;(10)是酸液室。

下面结合附图对本实用新型进一步说明:

参见图1,一种高纯石英砂清洗装置,它设有一个罐体7,罐体7左上方开有进料口6,罐体7内部设有滤板4,与滤板4平行右侧设有出料口5,罐体7中滤板4以下部分为酸液室10,酸液室10左侧上方设有进酸口2,右侧下方设有出酸口3,罐体7底部为PVC薄膜105,PVC薄膜105和压电晶片103形成密闭空间,内部装有偶合水104,压电晶片103和超声波加湿器101相连,超声波加湿器101上设有功率控制钮102。

工作时,首先将料斗中的石英砂从进料口6输送到滤板4上,输送完毕后密封进料口6,防止酸洗液汽化进入大气造成环境污染;打开进酸口2使储液室的酸洗液进入酸液室10内,完成后关闭进酸口2;其后,启动电源开关,通过功率控制钮102控制工作功率;酸洗液通过超声波加湿器101、压电晶片103、偶合水104和 PVC薄膜105的共同作用,形成向上喷出的雾化酸液9;然后,雾化酸液9对滤板4上的石英砂8进行动态清洗,到达顶部的雾化酸液9下落对石英砂8达到二次清洗的效果,石英砂8内部和表面的杂质随着酸液下落进入酸液室;上述酸洗过程周而复始运动数周后,关闭超声雾化装置电源。打开出酸口3,使含杂质的酸液排入与出酸口3相连的废液室;打开出料口5,使清洗后的石英砂8排出,进入下一道工序,完成酸洗过程。

以上说明,仅是本实用新型的较佳实例,并非对本实用新型作任何形式上的限制,凡是依据本实用新型的技术实质对以上实例所作的修改、等同变化与修饰,均仍属于本实用新型技术方案的范围。

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